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          鈦鋁靶

          鈦鋁靶

          • 所屬分類:鈦靶材
          • 瀏覽次數:
          • 二維碼:
          • 發布時間:2022-10-18 20:42:17
          • 產品概述

          靶材的主要指標之一是密度,靶材的純度對薄膜性能影響較大,更是在靶材的原先的技術工藝中減少靶材固體中的氣孔,有效提高了濺射薄膜性能,并且影響了薄膜的光學和電學性能。靶材密度越高,薄膜性能越好。

            靶材通常為多晶結構,晶粒大小從微米到毫米量級。晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快,而晶粒尺寸相差較小的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。


            鈦鋁靶應用范圍:

            鈦鋁靶廣泛應用于真空鍍膜行業的膜層鍍制、金屬、銀色、玫瑰金、七彩色、黑鈦等。
            鈦鋁靶還可用于CVD涂層的原料、硬質涂層,硬面噴涂粉的主要原料。
            把鈦通過多種方式制成鈦濺射靶材,可用于各種鍍膜,例如:太陽能、平板顯示、玻璃及裝飾鍍膜等。
            鈦鋁靶可用于石油化工,真空制鹽,氯堿工業,制藥,精細化工,電解,電鍍,海水淡化、航空航天等行業。

            產品參數:
            1.產品名稱:鈦鋁靶
            2.表面:光亮,酸洗面
            3.號:TA0,TA1,TA2,TC4
            4.純度:99.95%
            5.密度:4.51 g/cm3
            6.加工范圍:按客戶要求
            7.規格:可根據客戶要求定做生產。
            8.應用域:工業用途。
            9.付款方式:30% 定金,70 %發貨前付清。(含稅開具17%增值稅**)
            10.包裝方式: 用墊有塑料隔板的木箱包裝,內附有材質證明書及裝箱單等附件,單箱重量不超過100kg。
            11.發貨方式:快遞或物流(可協商)
            12.運 費:供應商承擔。
            13.后期服務:保質期內如出現質量問題,供方承擔所有責任(正常使用范圍內)


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