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          銅靶材

          銅靶材

          • 所屬分類:銅靶材
          • 瀏覽次數:
          • 二維碼:
          • 發布時間:2022-01-18 14:59:41
          • 產品概述

          銅靶材是真空鍍膜行業濺射靶材中的種,是高純銅材料經過系列加工后的產品,具有定的尺寸和形狀高純銅材料。由于高純銅別是超高純銅具有許多優良的性,目前已廣泛應用于電子、通信、超導、航天等域。

          銅靶材物理性質

          銅靶材用途

          適用于直流二濺射、三濺射、四濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等,相對其它靶材,銅靶材的價格較低,所以銅靶材是在能滿足膜層的功能前提下的靶材料。

          銅靶材分類

          銅靶材有平面銅靶材和旋轉銅靶材之分。

          平面銅靶材是片狀的,有圓形、方形等。

          旋轉銅靶材是管狀的,利用率高,但不易加工,要通過高純銅擠壓、拉伸、校直、熱處理,機加工等多種加工工序才能終制得銅旋轉靶材成品。


          銅靶材的概況

          銅靶材的生產方法

          1、銅的生產和提純:煉銅的原料是銅礦石。銅礦石可分為三類

          ⑴硫化礦如黃銅礦(CuFeS?)斑銅礦(Cu5FeS?)和輝銅礦(Cu?S)等。

          ⑵氧化礦如赤銅礦(Cu?O)孔雀石[Cu?(OH)?CO?]硅孔雀石(CuSiO?·2H?O)等。

          ⑶自然銅銅礦石中銅的含量在1%左右(0.5%~3%)的便有開采價值,因為采用浮選法可以把礦石中部分脈石等雜質除去,而得到含銅量較高(8%~35%)的精礦砂。經過提取后得到粗銅,再通過多次電解、區域熔煉等方法將銅從99.95%提純到99.99%、99.999%、99.9999%,目前內純度在99.9999%(6N)左右。

          2、有了高純度銅錠作為原材料,對原材料進行鍛造、軋制、熱處理等,使銅錠內晶粒變細小、致密度增加以滿足濺射所需銅靶材的要求。

          3、對變形處理后的高純度銅材料進行機械加工,銅靶材加工要求精度高、表面質量高,加工成真空鍍膜機所需的靶材尺寸就可以了,銅靶材與鍍膜機多以螺紋相連接。

          銅靶材展望

          隨著電子行業的飛速發展,對銅靶材的要求也在步步增加,銅靶材的純度和市場規范化、產品標準化還有待相關技術人員的共同努力!


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