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          靶材的制作方法及分類應用

          2022-06-09 00:00:00

          靶材是在電子信息行業中經常使用到的一種材料,雖然它的用途廣泛,但尋常大眾對于這種材料都了解不深,許多人都很好奇靶材的制作方法是什么?它又是怎樣分類的?下面四豐小編就給大家介紹下靶材的制作方法及分類應用

           

            一、靶材的制作方法

           

            1、鑄造法

           

            鑄造法是將一定成分配比的合金原料給熔煉起來,之后再將熔煉后得到的合金溶液澆到模具中,形成鑄錠,再經過機械加工后就形成了靶材。鑄造法一般需要在真空中熔煉鑄造,常見的鑄造方法有這幾種:真空感應熔煉、真空電弧熔煉以及真空電子轟擊熔煉,它的優點是制取的靶材雜質含量小,密度較高,能夠大型化制作;缺點是如果是熔煉熔點和密度差別較大的兩種及以上的金屬時,常規的熔煉法很難制成成分均勻的合金靶材。

           

            2、粉末冶金法

           

            粉末冶金法是將一定成分配比的合金原料熔煉,之后再將熔煉后得到的合金溶液澆鑄成鑄錠,把澆成的鑄錠粉碎,將粉碎后的粉末靜壓成型,然后高溫燒結形成靶材。這樣做成的靶材優點是成分均勻;缺點是密度低,雜質含量較高。經常用到的粉末冶金工業有冷壓、真空熱壓以及熱等靜壓這幾種。

           

            二、靶材的分類應用

           

            1、半導體關聯靶材:

           

            電極、布線薄膜:鋁靶材,銅靶材,金靶材,銀靶材,鈀靶材,鉑靶材等。

           

            儲存器電極薄膜:鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材等。

           

            粘附薄膜:鎢靶材,鈦靶材等。

           

            電容器絕緣膜薄膜:鋯鈦酸鉛靶材等。

           

            2、磁記錄靶材:

           

            垂直磁記錄薄膜:鈷鉻合金靶材等。

           

            硬盤用薄膜:鈷鉻鉭合金靶材,鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

           

            薄膜磁頭:鈷鉭鉻合金靶材,鈷鉻鋯合金靶材等。

           

            人工晶體薄膜:鈷鉑合金靶材,鈷鈀合金靶材等。

           

            3、光記錄靶材:

           

            相變光盤記錄薄膜:硒化碲靶材,硒化銻靶材,鍺銻碲合金靶材,鍺碲合金靶材等。

           

            磁光盤記錄薄膜:鏑鐵鈷合金靶材,鋱鏑鐵合金靶材,氧化鎂靶材,氮化硅靶材等。

           

            光盤反射薄膜:鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉻合金靶材,金靶材,金合金靶材等。

           

            光盤保護薄膜:氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化鋅靶材等。

           

            以上就是四豐小編對靶材的制作方法及分類應用的全部介紹,靶材經常用于電子信息領域,比如用于顯示器中,微電子中,或存儲技術上,如果您還想了解更多有關靶材的資訊,可以向洛陽高新四豐電子材料有限公司留言咨詢。


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